Waferクラック検査の特許を取得しました。

2020年4月、株式会社昭和電気研究所は、Waferのクラック検査装置の特許を取得しました。
近年、デバイスメーカーではWaferを薄化しており、それに伴い、薄くなったWaferにはクラックが入る事があります。このクラックはキズや汚れなどの欠陥とは比べ物にならない損害を与えかねません。しかしながら、このクラックは微小で見つけ辛いため、発見が非常に困難な状態です。
当社では、Wafer検査に関する技術力向上の取り組みを行い、より高精度な光学検査を実現します。

【主な特長】
・クラックを確実に可視化し、画像処理で検出します。
・他に類を見ない独特な光学系でクラックを目立つ様に映し出します。
・搬送途中でウェハをスキャンし検査するため、高スループットで、装置構想もシンプルな為、低価格です。

【特許概要】
特許取得日：　2020年4月